拋光研磨產品
精密拋光膜拋光帶
碧威拋光研磨產品有分為如下四種類別
- 拋光膜:拋光膜是一種超精密柔性拋光材料,由磨料粉體通過膠黏劑均勻塗敷於柔性基體表面製成,通常用於光纖插頭、半導體材料、金屬輥等的精密研磨拋光。
- 下圖為拋光膜/光纖插芯/研磨後端面顯微圖面
- 鑽石拋光膜-產品特點:
- 磨料粉體顆粒均勻分佈於基體表面
- 超微磨料顆粒使研磨紙具有很高的拋光精度
- 可實現磨料固定研磨拋光,提高研磨效率,節約研磨成本
- 基體的柔韌性使拋光膜具有良好的曲面拋光效果
- 適用於乾態、濕態等多種拋光模式
- 鑽石拋光膜規格:
型號 UND 0.5 UND 1 UND 2 UND 3 UND 6 粒度(um) 0.5 1 2 3 6 目數 10000 8000 6000 4000 3000 型號 UND9 UND15 UND30 UND45 粒度(um) 9 15 30 45 目數 2000 1200 600 400 圓形規格(mm) Φ70、Φ110、Φ127(5英吋)、 Φ203(8英吋) 方形規格(mm) 114×114、152×152(6英吋)、 228×228(9英吋) 帶狀(mm) 1.6、2.0、2.5、3.2、3.8、101.6 - 碳化矽、氧化鋁拋光膜規格:
產品系列 型 號 粒度(um) 相應目數 碳化矽系列 SC0.5 0.5 10000 SC1 1 8000 SC2 2 6000 SC3 3 4000 SC6 6 3000 SC9 9 2000 SC15 15 1200 SC30 30 600 氧化鋁系列 AO0.5 0.5 10000 AO1 1 8000 AO2 2 6000 AO3 3 4000 AO6 6 3000 AO9 9 2000 AO12 12 1500 AO15 15 1200 AO30 30 600 AO45 45 400 - 拋光膜產品應用:
- 光纖連接器的研磨拋光
- 金屬輥、曲軸的精密拋光
- 平面顯示器的拋光
- 光學鏡頭、晶體材料的研磨拋光
- 磁頭、硬盤的拋光
- 微型馬達軸和換向器的拋光
- 半導體材料的拋光
- 精密拋光帶規格
磨料種類 鑽石、氧化鋁、碳化矽 粒徑μm 45 30 15 12 9 6 3 2 1 0.5 0.3 寬度 1.2mm、1.6mm、2.0mm、2.5mm、3.0mm、3.2mm、3.8mm、5.0mm、12.6mm、101.6mm 長度 45m、100m、183m、200m 標準基材為厚度75μm,可依據客戶需求訂製不同厚度不同規格
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