PD-BVC類鑽膜機-DLC工作及鍍膜原理
- PECVD工作原理：
- 腔體內有上下兩塊電極，工件置於下面的電極基板之上，電極基板加熱至100°C~400°C之間。
- 在二電極板間外加一個高頻的射頻(radio frequency，RF)電壓，此時在二極間會有輝光放射的現象。
- 反應氣體則是由沈積腔外緣處導入，流動通過輝光放射區域，而在沈積腔中央處由真空幫浦加以排出。
- 工作原理示意圖
- 類鑽碳膜(DLC)原理：
- 電漿輔助化學反應氣相鍍膜(PECVD)
- 乙炔氣體＋電磁波→類鑽碳膜(DLC)
- 類鑽碳膜(DLC)原理示意圖
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