鑽石研磨液,刀具,銑刀,鎢鋼,鎢鋼刀製造商

碧威拋光研磨液產品有分為鑽石研磨液以及其他研磨液產品（如氧化鋁、碳化矽及二氧化矽..)

• 鑽石研磨液／單晶鑽石MDL／多晶鑽石PDS／奈米鑽石NDS
  
• 研磨液(拋光液)：研磨液由磨粒分散於介質製備而成，是一種具有優良化學機械性能的研磨產品，可用於矽片、化合物晶體、精密光學器件、液晶面板、寶石、金屬工件等的研磨拋光..研磨液由鑽石磨粒充分混合分散液中製備而成，根據鑽石的品種分為多晶鑽石、單晶鑽石和爆轟奈米鑽石三種。
• 單晶鑽石研磨(拋光)液(MDL)：
  具有良好的切削效果，適用於硬質材料的研磨拋光
  • 單晶鑽石研磨液產品特點：
    1. 精選的顆粒形狀
    2. 嚴格的粒度控制
  • 單晶鑽石研磨液產品應用：
    1. 用於一些硬脆材料如鑽石、鋯石、光學玻璃等的磨削拋光
    2. 硬質金屬等 的磨削拋光
• 多晶鑽石研磨(拋光)液(PDL)：
  具有獨特的韌性和自銳性，可實現高磨削力的同時不易產生劃傷。
  適用於金屬精密材料、光學晶體、陶瓷、硬質材料的研磨、拋光。
  • 多晶鑽石研磨液產品特點：
    1. 精選的多晶金剛石磨料
    2. 多種載體可適用於不同的加工領域
  • 多晶鑽石研磨液產品應用：
    1. 光碟、磁頭等材料的精密拋光
    2. 細粒度的可用作添加劑
• 奈米鑽石研磨(拋光)液(PDL)：
  具有良好的分散穩定性，適用於超精密拋光
  • 奈米鑽石研磨液產品特點：
    1. 由奈米鑽石顆粒分散於介質而成
    2. 奈米鑽石微粒由多個原晶組成，原晶近似球狀，在研磨過程中不會產生鋒刃，因此可得到很好的表面光潔度，具有良好的分散穩定性
  • 多晶鑽石研磨液產品應用：
    1. 光碟、磁頭等材料的精密拋光
    2. 細粒度的可用作添加劑
• 鑽石研磨液可供粒度：

  研磨液	粒徑μm	油基	水基
  聚晶鑽石研磨液	1/20	PC-N50-O	PC-N50-W
  	1/10	PC-N100-O	PC-N100-W
  	1/5	PC-N200-O	PC-N200-W
  	1/4	PC-N250-O	PC-N250-W
  	1/2	PC-N500-O	PC-N500-W
  	1	PC-1-O	PC-1-W
  	2	PC-2-O	PC-2-W
  	3	PC-3-O	PC-3-W
  	4	PC-4-O	PC-4-W
  	6	PC-6-O	PC-6-W
  單晶鑽石研磨液	1/20	MD-N50-O	MD-N50-W
  	1/10	MD-N100-O	MD-N100-W
  	1/6	MD-N160-O	MD-N160-W
  	1/4	MD-N250-O	MD-N250-W
  	1/2	MD-N500-O	MD-N500-W
  	1	MD-1-O	MD-1-W
  	2	MD-2-O	MD-2-W
  	3	MD-3-O	MD-3-W
  	4	MD-4-O	MD-4-W
  	6	MD-6-O	MD-6-W
  奈米鑽石研磨液	1/30	DND30-O	DND-30-W
  	1/20	DND-50-O	DND-50-W
  	1/10	DND-100-O	DND-100-W

• 研磨液產品應用：

  工件	NDS	QTD	PDS	MDS	SO
  碳化矽晶片	●	●	●		●
  藍寶石晶片	●	●	●		●
  藍寶石減薄		●	●
  硬質合金、不鏽鋼		●	●	●
  玻璃、光學鏡片等	●	●	●	●
  ●為適用加工