拋光研磨產品

其他研磨液

碧威拋光研磨產品有分為如下四種類別

  • 研磨液(拋光液)：
    1. 研磨液由磨粒分散於介質製備而成，是一種具有優良化學機械性能的研磨產品，可用於矽片、化合物晶體、精密光學器件、液晶面板、寶石、金屬工件等的研磨拋光。
    2. 磨粒是研磨液機械作用的關鍵因素，不同種類、不同粒度的磨粒磨削效果不同，適合於不同的加工要求..來講磨料硬度越高、顆粒越大，其磨削效率越高、加工表面光潔度越低；相反磨料硬度越低、顆粒越小，其磨削效率越低、加工表面光潔度越高。
    3. 介質是磨粒的載體，影響著磨粒的分散，在加工過程中起到冷卻、排屑等作用，有時還會起到化學腐蝕的作用..研磨液由鑽石磨粒充分混合分散液中製備而成，根據鑽石的品種分為多晶鑽石、單晶鑽石和爆轟奈米鑽石三種。
  • 氧化矽研磨液(圖)
    氧化矽研磨液-鑽石研磨液-其他鑽石研磨液
  • 超細氧化鋁(AO)、氧化铈(CO)、碳化矽(SC)為磨料拋光液：
    主要成分是微米或亞微米及磨料..列產品具有良好分散性、粒度均勻、硬度大、拋光效率高等特點，能滿足高精密光學儀器、微晶玻璃機光碟片、磁頭、化合物晶體、陶瓷、光纖連接器、硬質合金等方面的精密拋光求。
  • 產品特點：
    • 極低的雜質含量
    • 具有良好的分散穩定性
  • 超細氧化鋁(AO)、氧化铈(CO)、碳化矽(SC)規格：
    系列 型號 粒徑(D50,μm) 濃度(wt%)
    CO系列 CO-1/4 0.2-0.3 10-60
    CO-1/2 0.4-0.6
    CO-1 0.8-1.2
    AO系列 AO-1/2 0.4-0.6
    AO-2 1.6-2.4
    AO-3 2.9-3.6
    SC系列 SC-1 0.8-1.2
    SC-3 2.6-3.6
    可依據客戶需求訂製不同規格
  • 氧化矽拋光液：矽溶膠產品均是以高純矽粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品，廣泛用於多種材料納米級的高平坦化拋光，如：矽晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工..應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光後容易清洗等特點..：矽片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工..產不同細微性（10~150 nm）的產品滿足使用者需求..pH值的不同可分為酸性拋光液和鹼性拋光液。
  • 產品的特點：
    1. 高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化矽粒子達到高速拋光的目的（可以生產150 nm）
    2. 細微性可控，根據不同需要，可生產不同細微性的產品（10-150 nm）
    3. 高純度（Cu2+含量小於50 ppb），有效減小對電子類產品的沾汙
    4. 高平坦度加工，本品拋光是利用SiO2的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工
  • 氧化矽拋光液規格:
    鹼性型號 SOQ-2 SOQ-4 SOQ-6 SOQ-8 SOQ-10 SOQ-12
    pH：9.8±0.5 
    酸性型號 ASOQ-2 ASOQ-4 ASOQ-6 ASOQ-8 ASOQ-10 ASOQ-12
    pH：2.8±0.5
    粒徑(nm) 10~30 30~50 50~70 70~90 90~110 110~130
    外觀 乳白色或半透明液體
    密度(g/ml) 1.15±0.05
    组成 成份 含量（w%）
    SiO2 15～30
    Na2O ≤0.3
    重金屬雜質 ≤50 ppb

最新消息