研磨液(拋光液),刀具,銑刀,鎢鋼,鎢鋼刀製造商

碧威拋光研磨液產品有分為鑽石研磨液以及其他研磨液產品（如氧化鋁、碳化矽及二氧化矽..)

• 研磨液(拋光液)：
  1. 研磨液由磨粒分散於介質製備而成，是一種具有優良化學機械性能的研磨產品，可用於矽片、化合物晶體、精密光學器件、液晶面板、寶石、金屬工件等的研磨拋光。
  2. 磨粒是研磨液機械作用的關鍵因素，不同種類、不同粒度的磨粒磨削效果不同，適合於不同的加工要求..來講磨料硬度越高、顆粒越大，其磨削效率越高、加工表面光潔度越低；相反磨料硬度越低、顆粒越小，其磨削效率越低、加工表面光潔度越高。
  3. 介質是磨粒的載體，影響著磨粒的分散，在加工過程中起到冷卻、排屑等作用，有時還會起到化學腐蝕的作用..研磨液由鑽石磨粒充分混合分散液中製備而成，根據鑽石的品種分為多晶鑽石、單晶鑽石和爆轟奈米鑽石三種。
• 氧化矽研磨液(圖)
  
  
• 超細氧化鋁(AO)、碳化矽(SC)、二氧化矽(SiO2)為磨料拋光液：
  主要成分是微米或亞微米及磨料..列產品具有良好分散性、粒度均勻、硬度大、拋光效率高等特點，能滿足高精密光學儀器、微晶玻璃機光碟片、磁頭、化合物晶體、陶瓷、光纖連接器、硬質合金等方面的精密拋光求。
• 產品特點：
  • 極低的雜質含量
  • 具有良好的分散穩定性
• 超細氧化鋁(AO)、碳化矽(SC)、二氧化矽(SiO2)規格：

  系列	型號	粒徑(D50,μm)	濃度(wt%)
  AO系列	AO-1/2	0.4-0.6	10-60
  	AO-2	1.6-2.4
  	AO-3	2.9-3.6
  SC系列	SC-1	0.8-1.2
  	SC-3	2.6-3.6
  可依據客戶需求訂製不同規格

• 氧化矽拋光液：矽溶膠產品均是以高純矽粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品，廣泛用於多種材料納米級的高平坦化拋光，如：矽晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工..應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光後容易清洗等特點..：矽片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工..產不同細微性（10~150 nm）的產品滿足使用者需求..pH值的不同可分為酸性拋光液和鹼性拋光液。
• 產品的特點：
  1. 高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化矽粒子達到高速拋光的目的（可以生產150 nm）
  2. 細微性可控，根據不同需要，可生產不同細微性的產品（10-150 nm）
  3. 高純度（Cu2+含量小於50 ppb），有效減小對電子類產品的沾汙
  4. 高平坦度加工，本品拋光是利用SiO2的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工
• 氧化矽拋光液規格:

  鹼性型號	SOQ-2	SOQ-4	SOQ-6	SOQ-8		SOQ-10	SOQ-12
  pH：9.8±0.5
  酸性型號	ASOQ-2	ASOQ-4	ASOQ-6	ASOQ-8		ASOQ-10	ASOQ-12
  pH：2.8±0.5
  粒徑(nm)	10~30	30~50	50~70	70~90		90~110	110~130
  外觀	乳白色或半透明液體
  密度(g/ml)	1.15±0.05
  组成	成份				含量（w%）
  	SiO2				15～30
  	Na2O				≤0.3
  	重金屬雜質				≤50 ppb