拋光研磨產品-鑽石研磨液
碧威拋光研磨液產品有分為鑽石研磨液以及其他研磨液產品(如氧化鋁、碳化矽及二氧化矽..)
- 鑽石研磨液
- 其他研磨液
- 鑽石研磨液/單晶鑽石MDL/多晶鑽石PDS/奈米鑽石NDS
- 研磨液(拋光液):研磨液由磨粒分散於介質製備而成,是一種具有優良化學機械性能的研磨產品,可用於矽片、化合物晶體、精密光學器件、液晶面板、寶石、金屬工件等的研磨拋光..研磨液由鑽石磨粒充分混合分散液中製備而成,根據鑽石的品種分為多晶鑽石、單晶鑽石和爆轟奈米鑽石三種。
- 單晶鑽石研磨(拋光)液(MDL):
具有良好的切削效果,適用於硬質材料的研磨拋光- 單晶鑽石研磨液產品特點:
- 精選的顆粒形狀
- 嚴格的粒度控制
- 單晶鑽石研磨液產品應用:
- 用於一些硬脆材料如鑽石、鋯石、光學玻璃等的磨削拋光
- 硬質金屬等 的磨削拋光
- 單晶鑽石研磨液產品特點:
- 多晶鑽石研磨(拋光)液(PDL):
具有獨特的韌性和自銳性,可實現高磨削力的同時不易產生劃傷。
適用於金屬精密材料、光學晶體、陶瓷、硬質材料的研磨、拋光。- 多晶鑽石研磨液產品特點:
- 精選的多晶金剛石磨料
- 多種載體可適用於不同的加工領域
- 多晶鑽石研磨液產品應用:
- 光碟、磁頭等材料的精密拋光
- 細粒度的可用作添加劑
- 多晶鑽石研磨液產品特點:
- 奈米鑽石研磨(拋光)液(PDL):
具有良好的分散穩定性,適用於超精密拋光- 奈米鑽石研磨液產品特點:
- 由奈米鑽石顆粒分散於介質而成
- 奈米鑽石微粒由多個原晶組成,原晶近似球狀,在研磨過程中不會產生鋒刃,因此可得到很好的表面光潔度,具有良好的分散穩定性
- 多晶鑽石研磨液產品應用:
- 光碟、磁頭等材料的精密拋光
- 細粒度的可用作添加劑
- 奈米鑽石研磨液產品特點:
- 鑽石研磨液可供粒度:
研磨液 粒徑μm 油基 水基 聚晶鑽石研磨液 1/20 PC-N50-O PC-N50-W 1/10 PC-N100-O PC-N100-W 1/5 PC-N200-O PC-N200-W 1/4 PC-N250-O PC-N250-W 1/2 PC-N500-O PC-N500-W 1 PC-1-O PC-1-W 2 PC-2-O PC-2-W 3 PC-3-O PC-3-W 4 PC-4-O PC-4-W 6 PC-6-O PC-6-W 單晶鑽石研磨液 1/20 MD-N50-O MD-N50-W 1/10 MD-N100-O MD-N100-W 1/6 MD-N160-O MD-N160-W 1/4 MD-N250-O MD-N250-W 1/2 MD-N500-O MD-N500-W 1 MD-1-O MD-1-W 2 MD-2-O MD-2-W 3 MD-3-O MD-3-W 4 MD-4-O MD-4-W 6 MD-6-O MD-6-W 奈米鑽石研磨液 1/30 DND30-O DND-30-W 1/20 DND-50-O DND-50-W 1/10 DND-100-O DND-100-W - 研磨液產品應用:
工件 NDS QTD PDS MDS SO 碳化矽晶片 ● ● ● ● 藍寶石晶片 ● ● ● ● 藍寶石減薄 ● ● 硬質合金、不鏽鋼 ● ● ● 玻璃、光學鏡片等 ● ● ● ● ●為適用加工
拋光研磨液
- 鑽石研磨液
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